Рейтинг пользователей: / 0
ХудшийЛучший 
УДК 621.382
Дмитриев Вадим Сергеевич,,,,,,
МОДЕЛИРОВАНИЕ БАРЬЕРНЫХ ПЕРЕХОДОВ МЕТАЛЛ-ПОЛУПРОВОДНИК НА ОСНОВЕ ХИМИЧЕСКОГО ВЗАИМОДЕЙСТВИЯ
Dmitriev V.S.
THE MODELING OF THE METAL-SEMICONDUCTOR BARRIER TRANSITIONS, WHICH BASED ON THECHEMICAL INTERACTION

Аннотация. Проведено общее исследование барьерных переходов металл-полупроводник, которое основано на химическом взаимодействии. Проанализировано влияние инжекции неосновных носителей заряда на характеристики реальной структуры металл-полупроводник с учетом эффекта

Ключевые слова: химическое взаимодействие, коэффициент инжекции, барьерный переход металл-полупроводник, реакция переноса.

Abstract. A general study of the barrier metal-semiconductor transition, which is based on the chemical interaction, is made. The effect of the minority carriers injection on the metal-semiconductor real structure characteristics including the fast and slow conditi

Keywords: chemical reaction, injection rate, the barrier metal-semiconductor transition, the transfer reaction.

ЧИТАТЬ ВЕСЬ ТЕКСТ >>>

 
Секции-март 2016